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    上海先進半導體制造有限公司

    存續(xù)
    • 地址：上海市虹漕路385號
    • 簡介：-
    • 商標信息 13
    • 專利信息 345
    • 軟件著作權(quán) 1
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 3

    商標信息13

    序號 商標名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 圖形 09類-科學儀器 12707444 商標已注冊 2013-06-05 查看
    2 ASMC 09類-科學儀器 12707443 商標已注冊 2013-06-05 查看
    3 圖形 35類-廣告銷售 12707442 商標無效 2013-06-05 查看
    4 ASMC 35類-廣告銷售 12707441 商標已注冊 2013-06-05 查看
    5 圖形 40類-材料加工 12707440 商標已注冊 2013-06-05 查看
    6 ASMC 40類-材料加工 12707439 商標已注冊 2013-06-05 查看
    7 圖形 42類-網(wǎng)站服務(wù) 12707438 商標已注冊 2013-06-05 查看
    8 ASMC 42類-網(wǎng)站服務(wù) 12707437 商標已注冊 2013-06-05 查看
    9 ADVANCED SEMICONDCTOR ASMC 1988 09類-科學儀器 9497348 商標已注冊 2011-05-23 查看
    10 ASMC 09類-科學儀器 4713348 商標已注冊 2005-06-13 查看

    專利信息345

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 VDMOS及其制造方法 發(fā)明專利 CN201810683880.5 CN110660658B 2022-02-18
    2 高耐壓大電流增益的襯底PNP晶體管及其制造方法 發(fā)明專利 CN201910486427.X CN112053952B 2022-02-11
    3 場限環(huán)結(jié)構(gòu)的制備方法及系統(tǒng) 發(fā)明專利 CN202111050598.1 CN113903667A 2022-01-07
    4 帶外延層的半導體器件及其制作方法 發(fā)明專利 CN202010580005.1 CN113838747A 2021-12-24
    5 晶圓、半導體元件及半導體元件處理方法 發(fā)明專利 CN202110839455.2 CN113809149A 2021-12-17
    6 刻蝕機防止撞片的檢測方法及系統(tǒng) 發(fā)明專利 CN201910638720.3 CN112242313B 2021-11-16
    7 IGBT及其制造方法 發(fā)明專利 CN201810967106.7 CN110858609B 2021-11-05
    8 半導體器件及其鋁膜的制備方法 發(fā)明專利 CN202010326225.1 CN113549875A 2021-10-26
    9 一種用于監(jiān)控過孔工藝的電路版 發(fā)明專利 CN202010310097.1 CN113540036A 2021-10-22
    10 超級結(jié)結(jié)構(gòu)及其制作方法、超級結(jié)器件 發(fā)明專利 CN202010235845.4 CN113471068A 2021-10-01

    軟件著作權(quán)1

    序號 軟件名稱 軟件簡稱 版本號 登記號 分類號 首次發(fā)表日期 登記批準日期
    1 生產(chǎn)線即時報表系統(tǒng) MFG Report V1.0 2012SR053517 30200-0000 2007-12-08 2012-06-20

    作品著作權(quán)0

    暫無信息 暫無作品著作權(quán)

    網(wǎng)站備案3

    序號 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 上海先進半導體 www.asmcs.com 滬ICP備14039536號 企業(yè) 2019-08-23
    2 上海先進半導體制造股份有限公司 webmail.asmc.com.cn 滬ICP備14039536號 企業(yè) 2019-08-23
    3 上海先進半導體 www.asmcs.com 滬ICP備14039536號 企業(yè) 2019-08-23
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