和達
商標信息0
暫無商標信息
專利信息18
| 序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 用于蝕刻由銅層及鉬層構(gòu)成的金屬層的蝕刻液及其應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN201910582995.X | CN110219003B | 2021-08-24 |
| 2 | 一種用于制備間隙粒子材料的感光組合物 | 發(fā)明專利 | CN202110569677.7 | CN113238458A | 2021-08-10 |
| 3 | 一種蝕刻液中過氧化氫含量的檢測方法 | 發(fā)明專利 | CN202110569601.4 | CN113237841A | 2021-08-10 |
| 4 | 一種疊層金屬和金屬氧化物蝕刻液組合物及其使用方法 | 發(fā)明專利 | CN202110239107.1 | CN113046747A | 2021-06-29 |
| 5 | 一種鈦合金蝕刻液組合物及其使用方法 | 發(fā)明專利 | CN202110160013.5 | CN112981404A | 2021-06-18 |
| 6 | 一種環(huán)保低成本含鈦金屬蝕刻液組合物及其使用方法 | 發(fā)明專利 | CN202110124106.2 | CN112921321A | 2021-06-08 |
| 7 | 一種銅蝕刻液組合物及其制備方法和應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202011552376.5 | CN112795923A | 2021-05-14 |
| 8 | 一種含銅疊層蝕刻液、蝕刻方法及其應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202011260229.0 | CN112342548A | 2021-02-09 |
| 9 | 一種用于銅/鉬(鈮)/IGZO膜層的刻蝕液及其制備方法和應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010652548.X | CN111809182A | 2020-10-23 |
| 10 | 一種用于銅/鉬(鈮)/IGZO膜層的蝕刻液、蝕刻補充液及其制備方法和應(yīng)用 | 發(fā)明專利 | CN202010659770.2 | CN111808612A | 2020-10-23 |
軟件著作權(quán)0
暫無軟件著作權(quán)
作品著作權(quán)0
暫無作品著作權(quán)
網(wǎng)站備案0

暫無網(wǎng)站備案
郵箱
電話
公司簡介
企業(yè)聯(lián)系方式
關(guān)注公眾號,免費查看企業(yè)全部聯(lián)系方式
請使用微信掃描二維碼關(guān)注「滿商公司網(wǎng)」
滿商公司網(wǎng)
2億企業(yè)免費查
企業(yè)信息變動早知道
歡迎登錄
沒有賬戶?立即注冊
獲取驗證碼
找回密碼
返回登錄
歡迎登錄
返回登錄
獲取驗證碼