一種環(huán)保低成本含鈦金屬蝕刻液組合物及其使用方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110124106.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112921321A 公開（公告）日 2021-06-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN112921321A 申請(qǐng)公布日 2021-06-08
分類號(hào) C23F1/18;C23F1/44 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐帥;張紅偉;李闖;胡天齊;錢鐵民 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇和達(dá)電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海微策知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 湯俊明
地址 620010 四川省眉山市彭山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)創(chuàng)新二路中段8號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種環(huán)保低成本含鈦金屬蝕刻液組合物及其使用方法，蝕刻液包括主劑和輔劑，其中主劑組分按主劑的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計(jì)包括：過(guò)氧化氫1?20％，強(qiáng)氧化性酸1?10％，堿類化合物1?10％，過(guò)氧化氫穩(wěn)定劑0.01?5％，氨基唑類化合物0.01?2％，去離子水補(bǔ)充余量；輔劑組分按輔劑的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)計(jì)包括：強(qiáng)氧化性酸1?20％，堿類化合物1?20％，氨基唑類化合物0.01?2％，去離子水補(bǔ)充余量。本發(fā)明制作的蝕刻液組合物，無(wú)氟無(wú)磷，環(huán)境友好，廢液處理成本較低，具有較高的銅離子負(fù)載能力，蝕刻得到的金屬具有良好的蝕刻形貌，可滿足超高精細(xì)、中小尺寸顯示產(chǎn)品的生產(chǎn)要求。