一種用于銅/鉬（鈮）/IGZO膜層的蝕刻液、蝕刻補(bǔ)充液及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010659770.2 申請日 -
公開（公告）號 CN111808612A 公開（公告）日 2020-10-23
申請公布號 CN111808612A 申請公布日 2020-10-23
分類號 C09K13/08(2006.01)I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 徐帥;張紅偉;李闖;胡天齊;錢鐵民 申請（專利權(quán)）人 江蘇和達(dá)電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 江蘇和達(dá)電子科技有限公司;四川和晟達(dá)電子科技有限公司
地址 212212江蘇省鎮(zhèn)江市新壩鎮(zhèn)揚(yáng)中長江大橋東側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種用于銅/鉬(鈮)/IGZO膜層的蝕刻液、蝕刻補(bǔ)充液及其制備方法和應(yīng)用，蝕刻液包括以下組分：5～15％雙氧水；0.1～10％硝酸和/或硫酸；0.1～2％氫氟酸和/或氟化銨；1～10％有機(jī)酸；1～10％有機(jī)堿；0.08～1％氮唑類金屬緩蝕劑；0.1～1％苯基脲；余量水。蝕刻補(bǔ)充液包括以下組分：5～30％硝酸和/或硫酸；0.1～5％氫氟酸和/或氟化銨；5～30％有機(jī)酸；5～30％有機(jī)堿；0.1～2％氮唑類金屬緩蝕劑；余量水。本發(fā)明的蝕刻液、蝕刻補(bǔ)充液使得SD/IGZO膜層經(jīng)兩次蝕刻后具有良好坡面角，防止IGZO膜層嚴(yán)重拖尾，減少光罩使用數(shù)量，銅負(fù)載能力高，生產(chǎn)成本低。??