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    • 圖雙精密

    上海圖雙精密裝備有限公司

    存續(xù)
    • 地址：中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)金海路955弄1號1層西側(cè)
    • 簡介：-
    • 商標(biāo)信息 2
    • 專利信息 52
    • 軟件著作權(quán) 0
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 0

    商標(biāo)信息2

    序號 商標(biāo)名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 LIETH 07類-機(jī)械設(shè)備 32630891 商標(biāo)已注冊 2018-08-01 查看
    2 圖雙 LIETH 09類-科學(xué)儀器 32616057 商標(biāo)已注冊 2018-08-01 查看

    專利信息52

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 光刻機(jī)載片臺清掃裝置 實用新型 CN202022430056.4 CN214108106U 2021-09-03
    2 一種光刻機(jī)的溫度變頻調(diào)節(jié)系統(tǒng) 發(fā)明專利 CN202110450389.X CN113311670A 2021-08-27
    3 一種用于晶圓檢測的移動載臺機(jī)構(gòu) 發(fā)明專利 CN202110451025.3 CN113192875A 2021-07-30
    4 一種用于光刻機(jī)上的真空檢測裝置 發(fā)明專利 CN202110451054.X CN113176715A 2021-07-27
    5 一種光刻機(jī)運動臺反力抵消裝置 發(fā)明專利 CN202110450769.3 CN113176714A 2021-07-27
    6 一種光刻機(jī)運動臺系統(tǒng) 發(fā)明專利 CN202110450418.2 CN113176713A 2021-07-27
    7 一種適于接觸式光刻機(jī)的曝光裝置 發(fā)明專利 CN202110449124.8 CN113176712A 2021-07-27
    8 一種浸沒式光刻機(jī)浸沒流場維持裝置 發(fā)明專利 CN202110449115.9 CN113176711A 2021-07-27
    9 一種光刻機(jī)投影物鏡溫度均衡裝置 發(fā)明專利 CN202110449100.2 CN113176710A 2021-07-27
    10 光刻機(jī)硅片臺移動裝置 實用新型 CN202022433437.8 CN213780634U 2021-07-23

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