商標進度

商標申請
2018-08-01
初審公告
2019-01-06
已注冊
2019-04-07
終止
2029-04-06
商標詳情

| 商標 |
圖
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| 商標名稱 | 圖雙 LIETH | 商標狀態(tài) | 商標已注冊 |
| 申請日期 | 2018-08-01 | 申請/注冊號 | 32616057 |
| 國際分類 | 09類-科學儀器 | 是否共有商標 | 否 |
| 申請人名稱(中文) | 上海圖雙精密裝備有限公司 | 申請人名稱(英文) | - |
| 申請人地址(中文) | 上海市青浦區(qū)華浦路500號6幢A區(qū)1層199室 | 申請人地址(英文) | - |
| 商標類型 | 商標注冊申請---申請收文 | 商標形式 | - |
| 初審公告期號 | 1630 | 初審公告日期 | 2019-01-06 |
| 注冊公告期號 | 32616057 | 注冊公告日期 | 2019-04-07 |
| 優(yōu)先權(quán)日期 | - | 代理/辦理機構(gòu) | 上海安藍企業(yè)管理咨詢有限公司 |
| 國際注冊日 | - | 后期指定日期 | - |
| 專用權(quán)期限 | 2019-04-07-2029-04-06 | ||
| 商標公告 | - | ||
| 商品/服務 |
處理數(shù)字圖像用計算機軟件(0901)
處理半導體晶片用計算機軟件(0901)
半導體測試設備(0910)
電路測試儀(0910)
實驗室用烘箱(0910)
電子顯微鏡(0911)
金相顯微鏡(0911)
集成電路模塊(0913)
照明控制裝置(0913)
太陽能發(fā)電用光伏裝置和設備(0922)
處理數(shù)字圖像用計算機軟件;處理半導體晶片用計算機軟件;半導體測試設備;電路測試儀;實驗室用烘箱;電子顯微鏡;金相顯微鏡;集成電路模塊;照明控制裝置;太陽能發(fā)電用光伏裝置和設備
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| 商標流程 |
2018-08-01
商標注冊申請---申請收文 |
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