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    • 理想耀銳

    理想耀銳（浙江）能源科技有限公司

    存續(xù)
    • 官網(wǎng)：-
    • 地址：杭州市余杭區(qū)文一西路1500號(hào)1幢411室
    • 簡介：-
    • 商標(biāo)信息 0
    • 專利信息 16
    • 軟件著作權(quán) 2
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 0

    商標(biāo)信息0

    暫無信息 暫無商標(biāo)信息

    專利信息16

    序號(hào) 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號(hào) 公布日期
    1 汽化裝置以及汽化方法 發(fā)明專利 CN201010575296.1 CN102485952B 2015-09-23
    2 化學(xué)氣相沉積裝置 發(fā)明專利 CN201010612665.X CN102534552B 2014-04-30
    3 一種化學(xué)氣相沉積裝置及其噴頭組件 發(fā)明專利 CN201010553706.2 CN101974736B 2013-07-31
    4 基板傳送系統(tǒng) 實(shí)用新型 CN201220187886.1 CN202594391U 2012-12-12
    5 氣相反應(yīng)裝置 發(fā)明專利 CN201010524346.3 CN102061457B 2012-10-31
    6 化學(xué)氣相沉積設(shè)備 實(shí)用新型 CN201120553436.5 CN202499905U 2012-10-24
    7 氧化鋅薄膜沉積設(shè)備 實(shí)用新型 CN201120400506.3 CN202359197U 2012-08-01
    8 化學(xué)氣相沉積裝置 發(fā)明專利 CN201010612665.X CN102534552A 2012-07-04
    9 汽化裝置以及汽化方法 發(fā)明專利 CN201010575296.1 CN102485952A 2012-06-06
    10 化學(xué)氣相薄膜沉積設(shè)備 實(shí)用新型 CN201120346715.4 CN202246856U 2012-05-30

    軟件著作權(quán)2

    序號(hào) 軟件名稱 軟件簡稱 版本號(hào) 登記號(hào) 分類號(hào) 首次發(fā)表日期 登記批準(zhǔn)日期
    1 理想 LPCVD控制軟件 LPCVD控制軟件 V1.0 2017SR542862 10100-0000 2010-04-15 2017-09-25
    2 IE低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備模擬軟件 Jett Simulator V1.0 2017SR542850 10100-0000 2010-04-15 2017-09-25

    作品著作權(quán)0

    暫無信息 暫無作品著作權(quán)

    網(wǎng)站備案0

    暫無信息 暫無網(wǎng)站備案
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