化學(xué)氣相沉積設(shè)備
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201120553436.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN202499905U | 公開(公告)日 | 2012-10-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN202499905U | 申請(qǐng)公布日 | 2012-10-24 |
| 分類號(hào) | C23C16/455 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 李一成;汪宇澄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 理想耀銳(浙江)能源科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海信好專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張靜潔;徐雯瓊 |
| 地址 | 311100 浙江省杭州市余杭區(qū)文一西路1500號(hào)1幢411室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備,包含化學(xué)氣相沉積反應(yīng)腔以及氣體傳輸裝置;所述氣體傳輸裝置包含反應(yīng)氣源;在所述反應(yīng)氣源與所述化學(xué)氣相沉積反應(yīng)腔之間設(shè)置定量供氣裝置,該定量供氣裝置每次向化學(xué)氣相沉積反應(yīng)腔中輸送定量的反應(yīng)氣體。本實(shí)用新型可精確控制進(jìn)入各個(gè)反應(yīng)腔內(nèi)的反應(yīng)氣體量,提高薄膜太陽能電池的沉積質(zhì)量,并且有效降低化學(xué)氣相沉積設(shè)備的成本。 |





