光壘光電
光壘光電科技(上海)有限公司
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專利信息45
| 序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 進(jìn)氣裝置 | 實(shí)用新型 | CN201320504645.X | CN203653689U | 2014-06-18 |
| 2 | 進(jìn)氣管道以及進(jìn)氣裝置 | 實(shí)用新型 | CN201320504654.9 | CN203513793U | 2014-04-02 |
| 3 | 噴淋頭及反應(yīng)腔室 | 發(fā)明專利 | CN201310517831.1 | CN103540910A | 2014-01-29 |
| 4 | 半導(dǎo)體處理系統(tǒng)、襯底托盤以及機(jī)械手 | 發(fā)明專利 | CN201310411110.2 | CN103465266A | 2013-12-25 |
| 5 | 一種用于光學(xué)特性參數(shù)測試的LED外延結(jié)構(gòu) | 實(shí)用新型 | CN201320387474.7 | CN203351640U | 2013-12-18 |
| 6 | 半導(dǎo)體制造系統(tǒng) | 實(shí)用新型 | CN201320361049.0 | CN203351563U | 2013-12-18 |
| 7 | 沉積設(shè)備以及旋轉(zhuǎn)裝置 | 實(shí)用新型 | CN201320360851.8 | CN203346474U | 2013-12-18 |
| 8 | 一種用于化學(xué)氣相沉積工藝的襯底及石墨盤 | 實(shí)用新型 | CN201320326603.1 | CN203346473U | 2013-12-18 |
| 9 | 用于外延沉積III-V材料層的反應(yīng)腔 | 實(shí)用新型 | CN201320347098.9 | CN203346472U | 2013-12-18 |
| 10 | 用于外延沉積III-V材料層的反應(yīng)腔 | 實(shí)用新型 | CN201320346387.7 | CN203346471U | 2013-12-18 |
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