進(jìn)氣管道以及進(jìn)氣裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201320504654.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN203513793U 公開（公告）日 2014-04-02
申請(qǐng)公布號(hào) CN203513793U 申請(qǐng)公布日 2014-04-02
分類號(hào) C23C16/455(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 譚華強(qiáng);喬徽;林翔;蘇育家 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 光壘光電科技（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 鄭瑋
地址 200050 上海市長寧區(qū)延安西路889號(hào)1106B室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種進(jìn)氣管道以及包括所述進(jìn)氣管道的進(jìn)氣裝置。所述進(jìn)氣管道具有進(jìn)氣口和出氣口，所述進(jìn)氣管道還包括導(dǎo)流件，設(shè)置在所述進(jìn)氣口朝向氣體腔室的一端，所述導(dǎo)流件能夠使得來自氣體腔室的反應(yīng)氣體從第一方向漸變至第二方向并進(jìn)入所述進(jìn)氣口，經(jīng)過氣體管道的出氣口流向所述反應(yīng)區(qū)域。由于導(dǎo)流件的存在，使得反應(yīng)氣體能夠較為緩和的流出出氣口，因此反應(yīng)區(qū)域的氣體場的穩(wěn)定性和均勻性都能夠得到有效的改善，進(jìn)而對(duì)襯底膜層的生長有著較大的改善。