晶源
深圳晶源信息技術有限公司
存續(xù)商標信息1
| 序號 | 商標名稱 | 國際分類 | 注冊號 | 狀態(tài) | 申請日期 | 操作 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | PICATHO | 09類-科學儀器 | 25749947 | 商標已注冊 | 2017-08-08 | 查看 |
專利信息27
| 序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一種優(yōu)化掩模版圖的方法 | 發(fā)明專利 | CN201710351038.7 | CN108931883B | 2022-06-21 |
| 2 | 一種優(yōu)化掩模版圖的方法 | 發(fā)明專利 | CN201710351038.7 | CN108931883A | 2022-06-21 |
| 3 | 一種設計版圖缺陷修復方法、存儲介質及設備 | 發(fā)明專利 | CN202210090007.1 | CN114564908A | 2022-05-31 |
| 4 | 一種適用于雙重光刻技術的版圖拆分方法、適用于雙重光刻技術的版圖拆分裝置及電子設備 | 發(fā)明專利 | CN202210064590.9 | CN114488707A | 2022-05-13 |
| 5 | 一種應用于產生掩模圖形的方法、應用于產生掩模圖形的裝置及電子設備 | 發(fā)明專利 | CN202210035463.6 | CN114488683A | 2022-05-13 |
| 6 | 一種掩模圖形修正方法 | 發(fā)明專利 | CN202210044740.X | CN114063384A | 2022-02-18 |
| 7 | 全芯片掩模圖案生成的方法、裝置及計算機可讀介質 | 發(fā)明專利 | CN201810155893.5 | CN108490735B | 2022-01-11 |
| 8 | 一種集成電路制造光源優(yōu)化方法及電子設備 | 發(fā)明專利 | CN202011314971.5 | CN112506008A | 2021-03-16 |
| 9 | 一種掩模優(yōu)化方法、掩模優(yōu)化系統(tǒng)及電子設備 | 發(fā)明專利 | CN202011314970.0 | CN112506003A | 2021-03-16 |
| 10 | 一種基于多線程的圖像渲染方法、系統(tǒng)及電子設備 | 發(fā)明專利 | CN201910136436.6 | CN111612881A | 2020-09-01 |
軟件著作權3
| 序號 | 軟件名稱 | 軟件簡稱 | 版本號 | 登記號 | 分類號 | 首次發(fā)表日期 | 登記批準日期 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | PanGen良率綜合優(yōu)化系統(tǒng) | PanGen | V2.0 | 2021SR1637835 | - | - | 2021-11-04 |
| 2 | PanGen良率綜合優(yōu)化系統(tǒng) | - | V1.0 | 2019SR1357409 | - | - | 2019-12-12 |
| 3 | 晶源版圖生成器系統(tǒng) | GDS Gen系統(tǒng) | V1.0 | 2018SR486233 | - | - | 2018-06-26 |
作品著作權0
暫無作品著作權
網站備案0

暫無網站備案
郵箱
電話
企業(yè)聯系方式
關注公眾號,免費查看企業(yè)全部聯系方式
請使用微信掃描二維碼關注「滿商公司網」
滿商公司網
2億企業(yè)免費查
企業(yè)信息變動早知道
歡迎登錄
沒有賬戶?立即注冊
獲取驗證碼
找回密碼
返回登錄
歡迎登錄
返回登錄
獲取驗證碼