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  • 晶源

    深圳晶源信息技術有限公司

    存續(xù)
    • 官網:-
    • 地址:深圳市福田區(qū)福保街道福保社區(qū)紅棉道8號英達利科技數碼園C棟401A
    • 簡介:-
    • 商標信息 1
    • 專利信息 27
    • 軟件著作權 3
    • 作品著作權 0
    • 網站備案 0

    商標信息1

    序號 商標名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 PICATHO 09類-科學儀器 25749947 商標已注冊 2017-08-08 查看

    專利信息27

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開(公告)號 公布日期
    1 一種優(yōu)化掩模版圖的方法 發(fā)明專利 CN201710351038.7 CN108931883B 2022-06-21
    2 一種優(yōu)化掩模版圖的方法 發(fā)明專利 CN201710351038.7 CN108931883A 2022-06-21
    3 一種設計版圖缺陷修復方法、存儲介質及設備 發(fā)明專利 CN202210090007.1 CN114564908A 2022-05-31
    4 一種適用于雙重光刻技術的版圖拆分方法、適用于雙重光刻技術的版圖拆分裝置及電子設備 發(fā)明專利 CN202210064590.9 CN114488707A 2022-05-13
    5 一種應用于產生掩模圖形的方法、應用于產生掩模圖形的裝置及電子設備 發(fā)明專利 CN202210035463.6 CN114488683A 2022-05-13
    6 一種掩模圖形修正方法 發(fā)明專利 CN202210044740.X CN114063384A 2022-02-18
    7 全芯片掩模圖案生成的方法、裝置及計算機可讀介質 發(fā)明專利 CN201810155893.5 CN108490735B 2022-01-11
    8 一種集成電路制造光源優(yōu)化方法及電子設備 發(fā)明專利 CN202011314971.5 CN112506008A 2021-03-16
    9 一種掩模優(yōu)化方法、掩模優(yōu)化系統(tǒng)及電子設備 發(fā)明專利 CN202011314970.0 CN112506003A 2021-03-16
    10 一種基于多線程的圖像渲染方法、系統(tǒng)及電子設備 發(fā)明專利 CN201910136436.6 CN111612881A 2020-09-01

    軟件著作權3

    序號 軟件名稱 軟件簡稱 版本號 登記號 分類號 首次發(fā)表日期 登記批準日期
    1 PanGen良率綜合優(yōu)化系統(tǒng) PanGen V2.0 2021SR1637835 - - 2021-11-04
    2 PanGen良率綜合優(yōu)化系統(tǒng) - V1.0 2019SR1357409 - - 2019-12-12
    3 晶源版圖生成器系統(tǒng) GDS Gen系統(tǒng) V1.0 2018SR486233 - - 2018-06-26

    作品著作權0

    暫無信息 暫無作品著作權

    網站備案0

    暫無信息 暫無網站備案
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