一種掩模優(yōu)化方法、掩模優(yōu)化系統(tǒng)及電子設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011314970.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112506003A | 公開（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112506003A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-16 |
| 分類號(hào) | G03F1/70(2012.01)I;G03F1/36(2012.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 黃曄;丁明 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 深圳晶源信息技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智享知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 羅芬梅 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市福田區(qū)福保街道福保社區(qū)紅棉道8號(hào)英達(dá)利科技數(shù)碼園C棟401A | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及集成電路掩模設(shè)計(jì)領(lǐng)域，尤其涉及掩模優(yōu)化方法、掩模優(yōu)化系統(tǒng)及電子設(shè)備。包括步驟：S1、提供包括至少一個(gè)掩模圖形的掩模版圖，并將掩模版圖劃分成多個(gè)區(qū)域塊，至少部分區(qū)域塊中包括至少一個(gè)掩模圖形；S2、對(duì)區(qū)域塊中每個(gè)掩模圖形所有的線段分別與其周圍的線段執(zhí)行計(jì)算，獲得并記錄與每條線段對(duì)應(yīng)的特征值；S3、統(tǒng)計(jì)所有區(qū)域塊中的特征值，基于特征值對(duì)所述區(qū)域塊進(jìn)行分類，基于分類結(jié)果選擇需要執(zhí)行優(yōu)化的區(qū)域塊定義為執(zhí)行塊，所有執(zhí)行塊之間的掩模圖形的線段的特征值存在區(qū)別；及S4、對(duì)執(zhí)行塊進(jìn)行優(yōu)化，并記錄優(yōu)化結(jié)果，且基于優(yōu)化結(jié)果對(duì)掩模版圖進(jìn)行全局優(yōu)化，基于上述步驟對(duì)掩模版圖進(jìn)行優(yōu)化能很好的減小運(yùn)算量，提高優(yōu)化效率。?? |
