一種適用于雙重光刻技術(shù)的版圖拆分方法、適用于雙重光刻技術(shù)的版圖拆分裝置及電子設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210064590.9 申請日 -
公開（公告）號 CN114488707A 公開（公告）日 2022-05-13
申請公布號 CN114488707A 申請公布日 2022-05-13
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 閆歌;丁明 申請（專利權(quán)）人 深圳晶源信息技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 深圳市智享知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 518000廣東省深圳市福田區(qū)福保街道福保社區(qū)紅棉道8號英達利科技數(shù)碼園C棟401A
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及集成電路掩模設(shè)計領(lǐng)域，尤其涉及尤其涉及一種適用于雙重光刻技術(shù)的版圖拆分方法、適用于雙重光刻技術(shù)的版圖拆分裝置及電子設(shè)備，本方法包括如下步驟：提供包括多個掩模圖形的初始版圖；基于第一拆分規(guī)則將多個掩模圖形拆分為有沖突圖形和無沖突圖形；基于第二拆分規(guī)則將有沖突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形；基于第三拆分規(guī)則將無沖突圖形分為第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形；分別將第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與第一部分掩模圖形合并以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合并以獲得第二版圖，本發(fā)明提供的方案具有拆分速度快，拆分之后的兩個版圖形成的掩模曝光成像分辨率高的優(yōu)點。