一種集成電路制造光源優(yōu)化方法及電子設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202011314971.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112506008A | 公開（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申請公布號 | CN112506008A | 申請公布日 | 2021-03-16 |
| 分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 閆歌;丁明 | 申請（專利權(quán)）人 | 深圳晶源信息技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智享知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 羅芬梅 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市福田區(qū)福保街道福保社區(qū)紅棉道8號英達(dá)利科技數(shù)碼園C棟401A | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及集成電路制造光源優(yōu)化方法及電子設(shè)備，所述方法包括如下步驟：S1、提供初始光源；S2、根據(jù)初始光源的光源強(qiáng)度分布進(jìn)行區(qū)域分割以獲得多個(gè)子光源區(qū)域；S3、提供至少兩種匹配圖形，將至少兩種匹配圖形分別與每個(gè)子光源區(qū)域進(jìn)行匹配以獲得與每個(gè)子光源區(qū)域?qū)?yīng)的至少兩個(gè)匹配結(jié)果；S4、基于至少兩個(gè)匹配結(jié)果分別與每個(gè)子光源區(qū)域進(jìn)行計(jì)算以獲得與每個(gè)子光源區(qū)域?qū)?yīng)的最佳匹配圖形；及S5、基于與每個(gè)子光源區(qū)域?qū)?yīng)的最佳匹配圖形生成待優(yōu)化光源。用匹配圖形與分割的子光源區(qū)域進(jìn)行匹配能很好的提高待優(yōu)化光源的光源強(qiáng)度集中度，同時(shí)使得光源形狀更加理想，更好的獲得滿足用戶需求的光源。?? |
