一種掩模圖形修正方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202210044740.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114063384A | 公開(公告)日 | 2022-02-18 |
| 申請公布號 | CN114063384A | 申請公布日 | 2022-02-18 |
| 分類號 | G03F1/72(2012.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 介浩宇;丁明;閆歌 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳晶源信息技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智享知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 王琴 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市福田區(qū)福保街道福保社區(qū)紅棉道8號英達(dá)利科技數(shù)碼園C棟401A | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及光刻友好技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種掩模圖形修正方法,包括以下步驟:提供初始掩模圖形,所述初始掩模圖形中包括多個圖形點,每個圖形點具有對應(yīng)的圖形點信息;將所述初始掩模圖形中圖形點信息與預(yù)設(shè)掩模圖形匹配庫中壞點信息進(jìn)行匹配,該匹配庫包括掩模圖形壞點信息及與所述掩模圖形壞點對應(yīng)的修正點信息;若有壞點信息與初始掩模圖形中某圖形點信息匹配,則使用所述掩模圖形壞點對應(yīng)的所述修正點信息對所述初始掩模圖形進(jìn)行修正。為了解決現(xiàn)有的掩模圖形修正方法需耗費巨大的計算資源的問題,本發(fā)明提供一種掩模圖形修復(fù)方法。 |





