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    • 啟微

    江蘇啟微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司

    存續(xù)
    • 官網(wǎng)：-
    • 地址：啟東經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)林洋路2015號
    • 簡介：-
    • 商標(biāo)信息 2
    • 專利信息 29
    • 軟件著作權(quán) 0
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 0

    商標(biāo)信息2

    序號 商標(biāo)名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 啟微半導(dǎo)體 KEYTRON WET SOLUTIONS 37類-建筑修理 41441996 商標(biāo)已注冊 2019-09-30 查看
    2 啟微半導(dǎo)體 KEYTRON WET SOLUTIONS 07類-機(jī)械設(shè)備 41425908 商標(biāo)已注冊 2019-09-30 查看

    專利信息29

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 一種高潔凈晶圓濕法清洗裝置 發(fā)明專利 CN202011635599.8 CN112845300A 2021-05-28
    2 一種晶圓復(fù)合清洗設(shè)備 發(fā)明專利 CN202011631979.4 CN112845297A 2021-05-28
    3 可改善單片清洗固體結(jié)晶物堆積的裝置及濕法清洗設(shè)備 發(fā)明專利 CN202011631610.3 CN112845296A 2021-05-28
    4 一種有效防止晶圓交叉污染的氣流控制模組 發(fā)明專利 CN202011632744.7 CN112786493A 2021-05-11
    5 一種晶圓盒中轉(zhuǎn)輸送裝置及中轉(zhuǎn)輸送方法 發(fā)明專利 CN202011636183.8 CN112736003A 2021-04-30
    6 一種適用于供酸系統(tǒng)的高潔凈濕法設(shè)備 發(fā)明專利 CN202011637072.9 CN112735989A 2021-04-30
    7 一種用于晶圓清洗設(shè)備的復(fù)合腔體超短行程交錯控制方法 發(fā)明專利 CN202011636689.9 CN112735988A 2021-04-30
    8 一種晶圓復(fù)合清洗方法 發(fā)明專利 CN202011635619.1 CN112735986A 2021-04-30
    9 一種濕法處理設(shè)備氣密性安裝結(jié)構(gòu) 實用新型 CN202020033584.3 CN212553856U 2021-02-19
    10 一種減少移動應(yīng)力的機(jī)械手臂與濕法處理設(shè)備安裝結(jié)構(gòu) 實用新型 CN202020033151.8 CN212445206U 2021-02-02

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