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    • 超純應(yīng)用

    成都超純應(yīng)用材料有限責(zé)任公司

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    • 地址：成都市雙流區(qū)西航港空港二路1166號(hào)
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    • 商標(biāo)信息 1
    • 專利信息 51
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    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 2

    商標(biāo)信息1

    序號(hào) 商標(biāo)名稱 國(guó)際分類 注冊(cè)號(hào) 狀態(tài) 申請(qǐng)日期 操作
    1 UPAM 40類-材料加工 7269715 商標(biāo)已注冊(cè) 2009-03-20 查看

    專利信息51

    序號(hào) 專利名稱 專利類型 申請(qǐng)?zhí)?/th> 公開（公告）號(hào) 公布日期
    1 一種耐腐蝕涂層及其制備方法 發(fā)明專利 CN201910386092.4 CN110158032B 2021-09-28
    2 一種高致密度高純度碳化硅襯底材料的制備方法 發(fā)明專利 CN201810164824.0 CN108558405B 2021-08-24
    3 一種真空鍍膜翻轉(zhuǎn)工裝 實(shí)用新型 CN202021162634.4 CN212834008U 2021-03-30
    4 一種大小可調(diào)節(jié)的PVD鍍膜夾具 實(shí)用新型 CN202021162632.5 CN212834007U 2021-03-30
    5 一種蒸發(fā)鍍膜用回轉(zhuǎn)工裝 實(shí)用新型 CN202021158371.X CN212834006U 2021-03-30
    6 一種SiO2基底PVD鍍膜用轉(zhuǎn)動(dòng)夾具 實(shí)用新型 CN202021158166.3 CN212834005U 2021-03-30
    7 一種SiO2基底鍍Y2O3膜用夾具 實(shí)用新型 CN202020736676.8 CN212834004U 2021-03-30
    8 一種CVD碳化硅反應(yīng)腔室真空度測(cè)量裝置 實(shí)用新型 CN202020029167.1 CN211717702U 2020-10-20
    9 一種CVD碳化硅進(jìn)氣系統(tǒng) 實(shí)用新型 CN202020014529.X CN211713197U 2020-10-20
    10 一種分流式CVD沉積室 實(shí)用新型 CN202020006486.0 CN211713196U 2020-10-20

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    暫無信息 暫無軟件著作權(quán)

    作品著作權(quán)0

    暫無信息 暫無作品著作權(quán)

    網(wǎng)站備案2

    序號(hào) 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號(hào) 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 成都超純應(yīng)用材料有限責(zé)任公司 www.upam.cn 蜀ICP備13027084號(hào) 企業(yè) 2019-08-27
    2 - www.upam.cn 蜀ICP備13027084號(hào) 企業(yè) 2019-08-27
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