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    • 矩陣多元

    深圳市矩陣多元科技有限公司

    存續(xù)
    • 地址：深圳市龍華區(qū)民治街道上芬社區(qū)龍屋工業(yè)區(qū)6號廠房101一、二樓
    • 簡介：-
    • 商標(biāo)信息 2
    • 專利信息 25
    • 軟件著作權(quán) 4
    • 作品著作權(quán) 0
    • 網(wǎng)站備案 2

    商標(biāo)信息2

    序號 商標(biāo)名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 圖形 09類-科學(xué)儀器 37865732A 商標(biāo)已注冊 2019-04-28 查看
    2 圖形 09類-科學(xué)儀器 37865732 駁回復(fù)審中 2019-04-28 查看

    專利信息25

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 一種高通量掩膜版及高通量薄膜制造設(shè)備 實用新型 CN202022729297.9 CN214991797U 2021-12-03
    2 一種高通量掩膜版及切換機構(gòu) 實用新型 CN202022309143.4 CN214991796U 2021-12-03
    3 一種高通量掩膜版、高通量薄膜制造設(shè)備及制造方法 發(fā)明專利 CN202011322226.5 CN112795869A 2021-05-14
    4 一種脈沖激光沉積和磁控濺射復(fù)合系統(tǒng) 實用新型 CN201922082352.7 CN211445880U 2020-09-08
    5 脈沖激光沉積加熱器 實用新型 CN201921819387.8 CN211152225U 2020-07-31
    6 一種激光入射窗口保護裝置 實用新型 CN201921961180.4 CN211142144U 2020-07-31
    7 脈沖激光沉積三維加熱臺 實用新型 CN201921802768.5 CN211142143U 2020-07-31
    8 一種薄膜沉積工藝控制系統(tǒng) 實用新型 CN201822206910.1 CN209854239U 2019-12-27
    9 石英掩膜結(jié)構(gòu)體 實用新型 CN201821909824.0 CN209412300U 2019-09-20
    10 一種配比可控的大面積高通量復(fù)合薄膜合成裝置 實用新型 CN201822157390.X CN209194035U 2019-08-02

    軟件著作權(quán)4

    序號 軟件名稱 軟件簡稱 版本號 登記號 分類號 首次發(fā)表日期 登記批準(zhǔn)日期
    1 脈沖激光沉積系統(tǒng) - V1.0 2020SR0013324 10100-0000 2019-05-23 2020-01-03
    2 脈沖激光沉積設(shè)備的鍍膜控制系統(tǒng) - V1.0 2020SR0013278 10100-0000 2019-06-20 2020-01-03
    3 磁控濺射系統(tǒng) - V1.0 2020SR0012824 10100-0000 2019-09-05 2020-01-03
    4 PLD設(shè)備PLC多從站輪循讀寫控制系統(tǒng) - V1.0 2019SR0622051 10100-0000 2019-03-01 2019-06-17

    作品著作權(quán)0

    暫無信息 暫無作品著作權(quán)

    網(wǎng)站備案2

    序號 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 深圳市矩陣多元科技有限公司 www.arrayedmaterials.com 粵ICP備17070621號 企業(yè) 2017-06-13
    2 - www.arrayedmaterials.com 粵ICP備17070621號 企業(yè) 2017-06-13
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