一種脈沖激光沉積和磁控濺射復(fù)合系統(tǒng)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201922082352.7 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN211445880U | 公開（公告）日 | 2020-09-08 |
| 申請公布號 | CN211445880U | 申請公布日 | 2020-09-08 |
| 分類號 | C23C14/28(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 張曉軍;陳志強;朱新華;胡凱;姜鷺;方安安 | 申請（專利權(quán)）人 | 深圳市矩陣多元科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市華優(yōu)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 余薇 |
| 地址 | 518000廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道朗山路28號通產(chǎn)新興產(chǎn)業(yè)園3號廠房1樓北側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型適用于材料制造技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種脈沖激光沉積和磁控濺射復(fù)合系統(tǒng)，包括：腔體，其頂部設(shè)置有基片臺；脈沖激光沉積系統(tǒng)，其包括設(shè)置于腔體底部的靶材切換裝置以及設(shè)置于所述靶材切換裝置上的PLD靶材擋板，所述PLD靶材擋板設(shè)置有一開孔，所述靶材切換裝置可將其上靶材切換至所述開孔位置；磁控濺射系統(tǒng)，其包括設(shè)置于腔體內(nèi)用于控制磁控濺射靶材對準所述基片臺的靶材對準裝置、用于升降靶材控制裝置的升降裝置，以及由磁屏蔽材料制作的磁控擋板用以遮蔽所述磁控濺射靶材。本實用新型實現(xiàn)了一個復(fù)合系統(tǒng)中同時具有脈沖激光沉積系統(tǒng)和磁控濺射系統(tǒng)，從而降低了裝置的制造成本。?? |
