思沃激光
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專利信息9
| 序號 | 專利名稱 | 專利類型 | 申請?zhí)?/th> | 公開(公告)號 | 公布日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 分光曝光系統(tǒng) | 實用新型 | CN202023045894.6 | CN214067574U | 2021-08-27 |
| 2 | 一種無掩膜光刻設備 | 實用新型 | CN202022844337.4 | CN214011719U | 2021-08-20 |
| 3 | 一種無掩膜光刻設備 | 實用新型 | CN202022844287.X | CN213750654U | 2021-07-20 |
| 4 | 一種結構簡單的全反射混光系統(tǒng) | 實用新型 | CN202022937871.X | CN213423614U | 2021-06-11 |
| 5 | 一種反射效率高的全反射混光系統(tǒng) | 實用新型 | CN202022935595.3 | CN213362341U | 2021-06-04 |
| 6 | 一種方便調節(jié)的全反射混光系統(tǒng) | 實用新型 | CN202022935593.4 | CN213362340U | 2021-06-04 |
| 7 | 曝光方法、曝光機及計算機可讀存儲介質 | 發(fā)明專利 | CN202011499334.X | CN112462578A | 2021-03-09 |
| 8 | 一種無掩膜光刻設備和無掩膜光刻方法 | 發(fā)明專利 | CN202011374596.3 | CN112379578A | 2021-02-19 |
| 9 | 一種無掩膜光刻設備和無掩膜光刻方法 | 發(fā)明專利 | CN202011374575.1 | CN112379577A | 2021-02-19 |
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