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    • 芯恩

    芯恩（青島）集成電路有限公司

    在業(yè)
    • 地址：山東省青島市黃島區(qū)太白山路19號德國企業(yè)南區(qū)401
    • 簡介：-
    • 商標信息 10
    • 專利信息 196
    • 軟件著作權 0
    • 作品著作權 0
    • 網(wǎng)站備案 0

    商標信息10

    序號 商標名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 芯恩 40類-材料加工 58738059 商標申請中 2021-08-24 查看
    2 芯恩 09類-科學儀器 58735991 商標申請中 2021-08-24 查看
    3 芯恩 35類-廣告銷售 58731718 商標申請中 2021-08-24 查看
    4 芯恩 36類-金融物管 58716098 商標申請中 2021-08-24 查看
    5 芯恩 37類-建筑修理 58716018 商標申請中 2021-08-24 查看
    6 芯恩 42類-網(wǎng)站服務 58715797 商標申請中 2021-08-24 查看
    7 芯恩 07類-機械設備 58714310 商標申請中 2021-08-24 查看
    8 芯恩 38類-通訊服務 58710082 商標申請中 2021-08-24 查看
    9 芯恩 41類-教育娛樂 58706896 商標申請中 2021-08-24 查看
    10 SIDM 09類-科學儀器 54052552 等待實質審查 2021-03-05 查看

    專利信息196

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 半導體結構及其制備方法 發(fā)明專利 CN202010322713.5 CN113539794A 2021-10-22
    2 分離柵溝槽結構功率器件的形成方法 發(fā)明專利 CN202010192117.X CN113497121A 2021-10-12
    3 分離柵器件結構 發(fā)明專利 CN202010192099.5 CN113497120A 2021-10-12
    4 一種靜電吸盤及晶圓測試方法 發(fā)明專利 CN202010194361.X CN113496934A 2021-10-12
    5 一種離子注入角度的監(jiān)測方法 發(fā)明專利 CN202010191626.0 CN113496905A 2021-10-12
    6 功率器件套刻偏差電性測量結構及方法 發(fā)明專利 CN202010191526.8 CN113496904A 2021-10-12
    7 一種光刻膠圖案化方法及光刻膠剝離方法 發(fā)明專利 CN202010264995.8 CN113495430A 2021-10-12
    8 改善電鍍薄膜均勻性的裝置及方法 發(fā)明專利 CN202010195397.X CN113493920A 2021-10-12
    9 一種基于DSA的光刻方法 發(fā)明專利 CN202010217838.1 CN113448163A 2021-09-28
    10 提高SiC晶體生長效率及質量的方法及裝置 發(fā)明專利 CN202010213648.2 CN113445122A 2021-09-28

    軟件著作權0

    暫無信息 暫無軟件著作權

    作品著作權0

    暫無信息 暫無作品著作權

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    暫無信息 暫無網(wǎng)站備案
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