一種離子注入角度的監(jiān)測方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010191626.0 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN113496905A | 公開(公告)日 | 2021-10-12 |
| 申請公布號 | CN113496905A | 申請公布日 | 2021-10-12 |
| 分類號 | H01L21/66(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 盧合強;劉佑銘;平延磊;吳荘荘 | 申請(專利權)人 | 芯恩(青島)集成電路有限公司 |
| 代理機構 | 北京漢之知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 高園園 |
| 地址 | 266555山東省青島市黃島區(qū)中德生態(tài)園團結路2877號ICIC辦公樓4樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明提供一種離子注入角度的監(jiān)測方法,利用離子注入過程中存在的錐角效應及晶片的溝道效應,將晶片表面經(jīng)過圓心的離子束掃描路徑上的熱波值與離子注入角度及晶片旋轉(zhuǎn)角關聯(lián)起來,通過對具有預設離子注入傾斜角及晶片旋轉(zhuǎn)角的晶片進行離子注入,測量每片晶片表面經(jīng)過圓心的離子束掃描路徑上的熱波值,進而推算出離子注入傾斜角偏差及晶片的晶格偏差,最終達到了有效監(jiān)控離子注入機的離子注入角度準確性的目的。采用本發(fā)明的方法可將監(jiān)測晶片的數(shù)量縮減至四片,大大簡化監(jiān)測過程,降低監(jiān)測成本,同時本發(fā)明不僅排除了晶格偏差的干擾,更將嚴重影響監(jiān)測結果的錐角效應及溝道效應轉(zhuǎn)化為有利條件,從根本上提高了監(jiān)測結果的準確性。 |





