力得納光
成都力得納光科技有限公司
存續(xù)商標(biāo)信息1
| 序號(hào) | 商標(biāo)名稱(chēng) | 國(guó)際分類(lèi) | 注冊(cè)號(hào) | 狀態(tài) | 申請(qǐng)日期 | 操作 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | LDNG | - | 49174956 | 商標(biāo)已注冊(cè) | 2020-08-24 | 查看 |
專(zhuān)利信息0
暫無(wú)專(zhuān)利信息
軟件著作權(quán)15
| 序號(hào) | 軟件名稱(chēng) | 軟件簡(jiǎn)稱(chēng) | 版本號(hào) | 登記號(hào) | 分類(lèi)號(hào) | 首次發(fā)表日期 | 登記批準(zhǔn)日期 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 掩膜版透明光結(jié)構(gòu)透射區(qū)域模擬設(shè)計(jì)系統(tǒng) | - | V1.0 | 2021SR2107784 | - | 2021-05-18 | 2021-12-22 |
| 2 | 微納結(jié)構(gòu)圖形化設(shè)計(jì)軟件 | - | V1.0 | 2021SR2107720 | - | 2021-06-23 | 2021-12-22 |
| 3 | 掩膜版蝕刻圖形結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)系統(tǒng) | - | V1.0 | 2021SR2106308 | - | 2021-09-28 | 2021-12-22 |
| 4 | 微納硅片異形刻蝕精準(zhǔn)校正設(shè)計(jì)系統(tǒng) | - | V1.0 | 2021SR2106307 | - | 2021-11-10 | 2021-12-22 |
| 5 | 微納結(jié)構(gòu)光學(xué)衍射實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)系統(tǒng) | - | V1.0 | 2021SR2106305 | - | 2021-08-18 | 2021-12-22 |
| 6 | 微納結(jié)構(gòu)光刻膠電路圖案設(shè)計(jì)軟件 | - | V1.0 | 2021SR2106303 | - | 2021-04-20 | 2021-12-22 |
| 7 | 微納結(jié)構(gòu)光刻工藝實(shí)現(xiàn)圖形設(shè)計(jì)系統(tǒng) | - | V1.0 | 2021SR2106302 | - | 2021-07-07 | 2021-12-22 |
| 8 | 掩膜版第一表面圖形結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)系統(tǒng) | - | V1.0 | 2021SR2061076 | - | 2021-03-23 | 2021-12-15 |
| 9 | 掩膜版襯底結(jié)構(gòu)刻蝕工藝圖形設(shè)計(jì)系統(tǒng) | - | V1.0 | 2021SR2061075 | - | 2021-01-20 | 2021-12-15 |
| 10 | 掩膜調(diào)控制備半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)系統(tǒng) | - | V1.0 | 2021SR2061072 | - | 2020-10-08 | 2021-12-15 |
作品著作權(quán)0
暫無(wú)作品著作權(quán)
網(wǎng)站備案0

暫無(wú)網(wǎng)站備案
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