人人插人人射人人草|欧美亚洲黄色一级A片|国产女人Av影片|我想看中国的黄片|成人在线免费岛国|乱伦婷婷五月天|国产黄色五级毛片|蜜桃AV鲁一鲁一鲁一一区二区|国产无码精品自拍视频|亚洲日韩视频久久久成人AV

退出

  • 瀏覽歷史
  • 清除

    • 優(yōu)普萊

    深圳優(yōu)普萊等離子體技術(shù)有限公司

    存續(xù)
    • 地址：深圳市光明區(qū)光明街道東周社區(qū)雙明大道315號易方大廈1308
    • 簡介：-
    • 商標(biāo)信息 28
    • 專利信息 19
    • 軟件著作權(quán) 13
    • 作品著作權(quán) 1
    • 網(wǎng)站備案 4

    商標(biāo)信息28

    序號 商標(biāo)名稱 國際分類 注冊號 狀態(tài) 申請日期 操作
    1 UPL - 64094954 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    2 優(yōu)普萊 - 64094275 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    3 UPL - 64092023 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    4 UPL - 64091784 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    5 UNIPLASMA - 64091730 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    6 UNIPLASMA - 64087446 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    7 - - 64084655 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    8 UPL - 64078078 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    9 優(yōu)普萊 - 64077744 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看
    10 UPL - 64077134 等待實質(zhì)審查 2022-04-19 查看

    專利信息19

    序號 專利名稱 專利類型 申請?zhí)?/th> 公開（公告）號 公布日期
    1 一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石的雙腔體系統(tǒng)及設(shè)備 發(fā)明專利 CN202111631993.9 CN114277355A 2022-04-05
    2 一種用于化學(xué)氣相沉積的微波等離子體反應(yīng)腔及設(shè)備 發(fā)明專利 CN202111429766.8 CN114164418A 2022-03-11
    3 一種大功率微波等離子體粉體處理裝置 實用新型 CN202020931755.4 CN212441165U 2021-02-02
    4 一種大功率微波等離子體粉體處理器 發(fā)明專利 CN202010590323.6 CN111715162A 2020-09-29
    5 PCB等離子體加工裝置 實用新型 CN201720763242.5 CN206923156U 2018-01-23
    6 一種PCB等離子體處理裝置 實用新型 CN201720763220.9 CN206923155U 2018-01-23
    7 一種微波等離子體源和遠(yuǎn)程微波等離子體裝置 實用新型 CN201720267203.6 CN206790765U 2017-12-22
    8 一種微波等離子體粉體處理裝置 實用新型 CN201720204055.3 CN206596282U 2017-10-27
    9 一種微波等離子體粉體處理器 實用新型 CN201720164474.9 CN206595225U 2017-10-27
    10 一種新型微波等離子體處理裝置 實用新型 CN201720164441.4 CN206481488U 2017-09-08

    軟件著作權(quán)13

    序號 軟件名稱 軟件簡稱 版本號 登記號 分類號 首次發(fā)表日期 登記批準(zhǔn)日期
    1 優(yōu)普萊LINERAY線性等離子體控制系統(tǒng)軟件 LINERAY線性等離子體控制系統(tǒng) V1.0 2021SR0752527 - - 2021-05-24
    2 優(yōu)普萊HIPLUS等離子體化學(xué)氣相沉積工業(yè)生產(chǎn)管理系統(tǒng) HIPLUS MPCVD工業(yè)管理系統(tǒng) V1.0 2021SR0749698 - - 2021-05-24
    3 優(yōu)普萊HIPOP等離子體化學(xué)氣相沉積工業(yè)生產(chǎn)綜合監(jiān)控系統(tǒng) HIPOP MPCVD工業(yè)監(jiān)控系統(tǒng) V1.0 2021SR0749697 - - 2021-05-24
    4 優(yōu)普萊RAYPLUS等離子體裝置控制軟件 RAYPLUS等離子體控制系統(tǒng) 2.0 2021SR0524097 - - 2021-04-12
    5 優(yōu)普萊LABMAN等離子體實驗室管理系統(tǒng)軟件 LABMAN等離子體實驗室管理系統(tǒng) 2.0 2021SR0524096 - - 2021-04-12
    6 優(yōu)普萊UNIWAVE等離子體表面處理系統(tǒng)控制軟件 UNIWAVE控制軟件 2.0 2021SR0524095 - - 2021-04-12
    7 優(yōu)普萊LABICQ等離子體實驗室即時通信系統(tǒng)軟件 LABICQ通信軟件 2.0 2021SR0524094 - - 2021-04-12
    8 優(yōu)普萊UNIRAY微波等離子體諧振腔調(diào)諧系統(tǒng) UNIRAY微波等離子體諧振腔調(diào)諧系統(tǒng) 2.0 2021SR0524093 - - 2021-04-12
    9 優(yōu)普萊UNIRAY微波等離子體諧振腔調(diào)諧系統(tǒng) UNIRAY微波等離子體諧振腔調(diào)諧系統(tǒng) V1.0 2018SR429158 - - 2018-06-07
    10 優(yōu)普萊UNIWAVE等離子體表面處理系統(tǒng)控制軟件 UNIWAVE等離子體表面處理系統(tǒng)控制軟件 V1.0 2018SR426302 - - 2018-06-07

    作品著作權(quán)1

    序號 作品名 作品類別 登記號 創(chuàng)作完成日期 首次發(fā)表日期 登記批準(zhǔn)日期
    1 優(yōu)普萊 - 國作登字-2017-F-00350993 - 2016 2017

    網(wǎng)站備案4

    序號 網(wǎng)站名 網(wǎng)址 備案號 主辦單位性質(zhì) 審核日期
    1 - - 粵ICP備17047011號 企業(yè) 2022-04-19
    2 - www.uniplasma.com 粵ICP備17047011號 企業(yè) 2022-04-19
    3 深圳優(yōu)普萊等離子體技術(shù)有限公司 www.uniplasma.com 粵ICP備17047011號 企業(yè) 2021-05-13
    4 深圳優(yōu)普萊等離子體技術(shù)有限公司 www.uniplasma.com 粵ICP備17047011號 企業(yè) 2017-04-25
    vip

    企業(yè)聯(lián)系方式

    關(guān)注公眾號，免費查看企業(yè)全部聯(lián)系方式

    請使用微信掃描二維碼關(guān)注「滿商公司網(wǎng)」