一種表面增強(qiáng)拉曼散射基底及其制備方法和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011593563.8 申請日 -
公開（公告）號 CN114695615A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114695615A 申請公布日 2022-07-01
分類號 H01L33/22（2010.01）I;H01L33/00（2010.01）I;G01N21/65（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 潘革波;周全 申請（專利權(quán)）人 中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 -
地址 215123江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)獨(dú)墅湖高教區(qū)若水路398號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種表面增強(qiáng)拉曼散射基底及其制備方法和應(yīng)用，所述表面增強(qiáng)拉曼散射基底包括依次層疊設(shè)置的光源層、半導(dǎo)體襯底層以及拉曼散射材料層。本發(fā)明在基底中引入原位光源層，實(shí)現(xiàn)拉曼散射的原位增強(qiáng)，能夠提升基底的光利用率，表面增強(qiáng)效果更好，具有較高的穩(wěn)定性、靈敏度和重現(xiàn)性，能夠滿足多種需求的拉曼散射器件，且制備工藝簡單，成本低廉。