一種提高氮化物L(fēng)ED外延片發(fā)射波長(zhǎng)均勻性的生長(zhǎng)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310023732.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN103943731B 公開(kāi)(公告)日 2017-03-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN103943731B 申請(qǐng)公布日 2017-03-15
分類(lèi)號(hào) H01L33/00(2010.01)I 分類(lèi) 基本電氣元件;
發(fā)明人 馬亮;梁信偉 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 同方光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100083 北京市海淀區(qū)清華同方科技廣場(chǎng)A座29層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種提高氮化物L(fēng)ED外延片發(fā)射波長(zhǎng)均勻性的生長(zhǎng)方法,涉及半導(dǎo)體光電子領(lǐng)域。本發(fā)明的方法步驟為:對(duì)外延片進(jìn)行有源區(qū)薄膜生長(zhǎng)時(shí),先確定凹槽表面的等溫面空間分布及其彎曲度;調(diào)整托盤(pán)的加熱溫度,使外延片表面的溫度與目標(biāo)發(fā)射波長(zhǎng)相匹配;同時(shí),通過(guò)改變外延片的結(jié)構(gòu)參數(shù)和工藝條件來(lái)調(diào)整其彎曲度,使外延片彎曲度和凹槽表面等溫面的彎曲度相等。同現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明生長(zhǎng)方法通過(guò)控制外延片晶體生長(zhǎng)時(shí)的彎曲度,有效提高氮化物L(fēng)ED或LD外延片發(fā)射波長(zhǎng)均勻性。