壓力傳感器的制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201610696305.X | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN107764439B | 公開(公告)日 | 2020-01-24 |
| 申請公布號 | CN107764439B | 申請公布日 | 2020-01-24 |
| 分類號 | G01L1/14;B81C3/00 | 分類 | 測量;測試; |
| 發(fā)明人 | 劉孟彬;毛劍宏 | 申請(專利權(quán))人 | 上海麗恒光微電子科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 上海麗恒光微電子科技有限公司 |
| 地址 | 201203 上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)龍東大道3000號5號樓501B室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明揭示了一種壓力傳感器的制備方法,包括:提供半導(dǎo)體基底,所述半導(dǎo)體基底的上表面形成有底部電極;在所述半導(dǎo)體基底的上形成一介電層,在所述介電層中形成第一開口,所述第一開口暴露出所述底部電極;在所述介電層上鍵合一晶圓,所述晶圓覆蓋所述第一開口,并形成一空腔;減薄所述晶圓至一預(yù)定厚度;在減薄后的所述晶圓上形成一鈍化層;以及選擇性刻蝕所述鈍化層,以暴露出所述空腔上的部分所述晶圓。本發(fā)明的壓力傳感器的制備方法中,頂部電極以晶圓方式鍵合到所述半導(dǎo)體基底上,避免在所述半導(dǎo)體基底上淀積多晶硅,從而避免使用高溫。 |





