防殘留負(fù)壓儲(chǔ)氫裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911356116.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111076081B 公開(kāi)（公告）日 2021-08-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN111076081B 申請(qǐng)公布日 2021-08-17
分類號(hào) F17C1/00;F17C13/04 分類 氣體或液體的貯存或分配;
發(fā)明人 周聯(lián)群;周廷云 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 特佳星能源科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京海虹嘉誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 胡博文
地址 300000 天津市武清區(qū)上馬臺(tái)鎮(zhèn)金源路8號(hào)208室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種防殘留負(fù)壓儲(chǔ)氫裝置，包括儲(chǔ)氣罐、位于儲(chǔ)氣罐內(nèi)的若干個(gè)分隔盤和若干個(gè)移動(dòng)壓盤以及氣管，若干個(gè)分隔盤軸向排列并連接于儲(chǔ)氣罐內(nèi)圓使相鄰分隔盤之間形成獨(dú)立的儲(chǔ)氣腔，所述氣管同軸設(shè)置于儲(chǔ)氣罐內(nèi)，若干個(gè)移動(dòng)壓盤連接于氣管上并一一對(duì)應(yīng)位于儲(chǔ)氣腔內(nèi)，氣管對(duì)應(yīng)于各儲(chǔ)氣腔開(kāi)設(shè)有貫通于該儲(chǔ)氣腔的氣孔，所述儲(chǔ)氣罐外圓開(kāi)設(shè)有一一對(duì)應(yīng)貫通于儲(chǔ)氣腔內(nèi)的排氣口，所述氣管一端密封另一端穿出儲(chǔ)氣罐作為通氣口；本發(fā)明在在加注氫氣時(shí)，通過(guò)形成負(fù)壓環(huán)境，可極大改善了由于加注口處壓力過(guò)大導(dǎo)致的泄露現(xiàn)象；在排氫氣時(shí)，通過(guò)壓縮氣體，輔助氫氣的排出，可完全排出儲(chǔ)氣腔內(nèi)的氫氣，減小氫氣殘留，改善氫氣浪費(fèi)現(xiàn)象。