一種外延薄膜生長承載盤
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202022770695.5 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN213925129U | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
| 申請公布號 | CN213925129U | 申請公布日 | 2021-08-10 |
| 分類號 | C30B29/36(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 劉杰;馮淦;趙建輝 | 申請(專利權(quán))人 | 瀚天天成電子科技(廈門)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉小勤 |
| 地址 | 361001福建省廈門市火炬高新區(qū)(翔安)產(chǎn)業(yè)區(qū)翔星路96號建業(yè)樓B座一層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型涉及一種外延薄膜生長承載盤,包括圓盤,所述圓盤上表面設(shè)置環(huán)形凹槽,所述凹槽內(nèi)設(shè)置至少一個內(nèi)環(huán),所述內(nèi)環(huán)與所述圓盤可拆卸地連接;所述圓盤的外周設(shè)置環(huán)形凸起,所述凸起的外沿套接外環(huán),所述外環(huán)的外沿與所述圓盤的外沿平齊。所述外延薄膜生長承載盤可以通過增加或者去除內(nèi)環(huán),使得承載盤厚度發(fā)生改變,從而達到調(diào)整晶片表面溫場分布的效果,控制方法簡便,普通操作者皆可以掌握,便于推廣運用,尤其適用于碳化硅外沿薄膜的制備。 |





