低噪聲放大器芯片封裝結(jié)構(gòu)和衛(wèi)星高頻頭電路
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201811223998.6 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN109494204B | 公開(公告)日 | 2019-03-19 |
| 申請公布號 | CN109494204B | 申請公布日 | 2019-03-19 |
| 分類號 | H01L23/31(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 林水洋;宋穎;徐乃昊;周智;何德寬;王志高 | 申請(專利權(quán))人 | 隔空微電子(廣州)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京清大紫荊知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 馮振華 |
| 地址 | 510635廣東省廣州市天河區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)光譜東路3號(1)棟一期廠房四層426 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種低噪聲放大器芯片封裝結(jié)構(gòu)和一種衛(wèi)星高頻頭電路,所述封裝結(jié)構(gòu)包括:導(dǎo)線框架,包括裸片布局區(qū)和至少六個(gè)引腳,所述至少六個(gè)引腳圍繞所述裸片布局區(qū)放置;第一裸片和第二裸片,置于所述裸片布局區(qū),所述裸片布局區(qū)與至少兩個(gè)引腳電連接,所述第一裸片包括第一FET結(jié)構(gòu),所述第二裸片包括第二FET結(jié)構(gòu),且所述第一FET結(jié)構(gòu)和第二FET結(jié)構(gòu)的源極均通過導(dǎo)線電連接至所述裸片布局區(qū),所述第一FET結(jié)構(gòu)和第二FET結(jié)構(gòu)的柵極和漏極分別通過導(dǎo)線電連接至與所述裸片布局區(qū)隔離的不同的引腳。所述低噪聲放大器芯片封裝結(jié)構(gòu)能夠提高衛(wèi)星高頻頭電路的集成度。?? |





