商標(biāo)進度
1
商標(biāo)申請
2021-05-20
2
初審公告
3
已注冊
終止
商標(biāo)詳情
| 商標(biāo) |
U
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| 商標(biāo)名稱 | ULTRA C G | 商標(biāo)狀態(tài) | 等待實質(zhì)審查 |
| 申請日期 | 2021-05-20 | 申請/注冊號 | 56234578 |
| 國際分類 | 07類-機械設(shè)備 | 是否共有商標(biāo) | 否 |
| 申請人名稱（中文） | 盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司 | 申請人名稱（英文） | - |
| 申請人地址（中文） | 上海市浦東新區(qū)中國（上海）自由貿(mào)易試驗區(qū)蔡倫路1690號第4幢 | 申請人地址（英文） | - |
| 商標(biāo)類型 | 商標(biāo)注冊申請---申請收文 | 商標(biāo)形式 | - |
| 初審公告期號 | - | 初審公告日期 | - |
| 注冊公告期號 | 56234578 | 注冊公告日期 | - |
| 優(yōu)先權(quán)日期 | - | 代理/辦理機構(gòu) | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 |
| 國際注冊日 | - | 后期指定日期 | - |
| 專用權(quán)期限 | - | ||
| 商標(biāo)公告 | - | ||
| 商品/服務(wù) |
LED顯示屏制造設(shè)備()
半導(dǎo)體晶片處理設(shè)備（干法刻蝕設(shè)備）()
半導(dǎo)體晶片處理設(shè)備（濕法刻蝕設(shè)備）()
半導(dǎo)體晶片處理設(shè)備（兆聲波清洗設(shè)備）()
半導(dǎo)體晶片處理設(shè)備(0744)
半導(dǎo)體晶片清洗設(shè)備()
半導(dǎo)體制造設(shè)備(0744)
電池機械(0717)
電動清潔機械和設(shè)備(0752)
電子工業(yè)設(shè)備(0744)
化學(xué)處理用攪拌機(0729)
化學(xué)工業(yè)用電動機械(0729)
化學(xué)加工用混合機(0729)
化學(xué)液混合和供給設(shè)備()
清洗設(shè)備(0752)
太陽能電池制造設(shè)備()
微電子工業(yè)設(shè)備()
液晶顯示器制造設(shè)備()
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| 商標(biāo)流程 |
2021-05-20
商標(biāo)注冊申請---申請收文 |
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