一種真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910079503.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN111485201A | 公開（公告）日 | 2020-08-04 |
| 申請公布號 | CN111485201A | 申請公布日 | 2020-08-04 |
| 分類號 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/26(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 陳衛(wèi)民;王捷 | 申請（專利權(quán)）人 | 廣州先藝電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 廣州先藝電子科技有限公司 |
| 地址 | 510000廣東省廣州市番禺區(qū)南村鎮(zhèn)里仁洞金山工業(yè)園自編B幢B201、B202、B302 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源，一種真空蒸鍍設(shè)備的蒸發(fā)源，包括坩堝和加熱部，所述加熱部均勻設(shè)置在所述坩堝的外周；所述蒸發(fā)源的側(cè)上方設(shè)置有坩堝，坩堝底部設(shè)置有小孔；所述坩堝底部的小孔與所述蒸發(fā)部之間設(shè)置有引流束；所述引流束的一端設(shè)置在所述蒸發(fā)部，所述引流束的另一端穿過坩堝底部的小孔伸入至坩堝內(nèi)。本發(fā)明由于蒸發(fā)原料以液體狀態(tài)沿著引流束逐步輸運(yùn)，在到達(dá)蒸發(fā)部時(shí)迅速蒸發(fā)，減少了同時(shí)加熱蒸發(fā)原料導(dǎo)致的成分偏差。同時(shí),該蒸發(fā)源對蒸發(fā)原料的形狀要求低，不需要制備成粉末、絲狀等特殊形狀，降低了原料成本。?? |
