一種用于非常規(guī)激光陀螺腔體拋光的快速上盤裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110303947.X 申請日 -
公開（公告）號 CN113084682B 公開（公告）日 2022-04-22
申請公布號 CN113084682B 申請公布日 2022-04-22
分類號 B24B29/02（2006.01）I;B24B27/00（2006.01）I;B24B49/00（2012.01）I;B24B55/00（2006.01）I;B24B41/06（2012.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 王銳;馮保華;王琦;張妤 申請（專利權）人 北京航天時代激光導航技術有限責任公司
代理機構 中國航天科技專利中心 代理人 陳鵬
地址 100094北京市海淀區(qū)永豐產(chǎn)業(yè)基地永捷北路3號A座3層312室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種用于非常規(guī)激光陀螺腔體拋光的快速上盤裝置及方法，該上盤裝置包括第一微調機構和第二微調機構，第一微調結構用于基準側面的調整量的確定，第二微調機構用于根據(jù)調整量光膠上盤。通過該上盤裝置實施激光陀螺腔體在方磚上的上盤，滿足了陀螺腔體基準側面的高效精準拋光，即使激光陀螺腔體省略了前期機械加工和光學加工的穿叉工序，僅加工了一個基準大面，也能夠通過后續(xù)基準側面的拋光快速有效實現(xiàn)粘貼面的精確加工，為低成本、小體型和高精度的激光陀螺腔體的高效加工創(chuàng)造了條件。