一種外延片、平面型光電二極管及其制備方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201910708340.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN110571300B | 公開(公告)日 | 2021-08-13 |
| 申請公布號 | CN110571300B | 申請公布日 | 2021-08-13 |
| 分類號 | H01L31/105;H01L31/0304;H01L31/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 胡艷;岳愛文;鐘行;李晶;李明;馬衛(wèi)東 | 申請(專利權(quán))人 | 武漢電信器件有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李梅香;張穎玲 |
| 地址 | 430074 湖北省武漢市洪山區(qū)郵科院路88號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明實(shí)施例公開了一種外延片,包括:襯底,以及位于所述襯底上的外延層;其中,所述襯底包括N型襯底;所述外延層,包括依次位于所述N型襯底上的耗盡區(qū)補(bǔ)償層以及I型耗盡層;所述耗盡區(qū)補(bǔ)償層為N型摻雜層,且其摻雜濃度在1e16cm?3至5e16cm?3的范圍內(nèi)。此外,本發(fā)明實(shí)施例還公開了一種平面型光電二極管、具有千兆位功能的無源光網(wǎng)絡(luò)模塊、以及一種平面型光電二極管的制備方法。 |





