一種晶圓片的研磨拋光方法以及相應(yīng)的晶圓片
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201811303290.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN109509701B | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
| 申請公布號 | CN109509701B | 申請公布日 | 2021-08-10 |
| 分類號 | H01L21/02(2006.01)I;B24B37/04(2012.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 熊帥;王廣陽;熊永華;岳愛文 | 申請(專利權(quán))人 | 武漢電信器件有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市愛迪森知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 何婷 |
| 地址 | 430074湖北省武漢市洪山區(qū)郵科院路88號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種晶圓片的研磨拋光方法以及相應(yīng)的晶圓片,該晶圓片的研磨拋光方法包括根據(jù)晶圓片的硬度,配置與所述晶圓片相匹配的研磨液;采用所述研磨液對所述晶圓片進(jìn)行研磨;采用化學(xué)方式對研磨后的晶圓片進(jìn)行拋光,以釋放由于研磨操作產(chǎn)生的應(yīng)力;對拋光后的晶圓片進(jìn)行清潔處理,得到研磨拋光后的晶圓片。本發(fā)明依據(jù)晶圓片的硬度配置合適的研磨液,以保證研磨的去除率,達(dá)到晶圓片減薄的效果,同時,采用化學(xué)方式對晶圓片進(jìn)行拋光,釋放研磨過程中產(chǎn)生的應(yīng)力,保證晶圓片的平整度,并有效避免了晶圓片裂片情況的發(fā)生。 |





