一種掩模板清洗系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410059568.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN104152846B 公開（公告）日 2016-08-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN104152846B 申請(qǐng)公布日 2016-08-17
分類號(hào) C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C25F7/00(2006.01)I;C25F1/00(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳浚漪科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州市南鋒專利事務(wù)所有限公司 代理人 深圳浚漪科技有限公司
地址 518101 廣東省深圳市坪山新區(qū)坪山街道沙湖社區(qū)錦龍大道南2-10號(hào)西
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種掩模板清洗系統(tǒng)，其具有第一清洗設(shè)備，用于清洗表面的有機(jī)材料殘留物、第二清洗設(shè)備，用于清洗顆粒雜質(zhì)和第一漂洗裝置、第二漂洗裝置，分別用于對(duì)經(jīng)第一清洗設(shè)備和第二清洗設(shè)備清洗過的掩模板進(jìn)行漂洗，最終將掩模板清洗干凈，本發(fā)明不僅可有效提高清洗效果，而且可以減少清洗液的損耗，提高清洗液的利用率，從而降低清洗成本。同時(shí)，在清洗的過程中，本發(fā)明采用機(jī)械手對(duì)掩模板進(jìn)行轉(zhuǎn)運(yùn)，可實(shí)現(xiàn)清洗過程的連續(xù)化和自動(dòng)化控制，提高了清洗效率，并進(jìn)一步降低了清洗成本。