一種表面增強(qiáng)拉曼散射基底及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010652293.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111650183A | 公開（公告）日 | 2020-09-11 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111650183A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-11 |
| 分類號(hào) | G01N21/65(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 紹興鐳納激光科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京睿智保誠專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 杭州威納激光科技有限公司 |
| 地址 | 311201浙江省杭州市蕭山區(qū)城廂街道金城路39號(hào)紫橙國際創(chuàng)新中心2號(hào)樓 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于表面增強(qiáng)拉曼散射光譜分析技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供了一種表面增強(qiáng)拉曼散射基底，本發(fā)明提供的表面增強(qiáng)拉曼散射基底，在表面具有微米坑與納米帶、納米突起、納米波紋和納米顆粒的多級(jí)三維自支撐結(jié)構(gòu)。本發(fā)明還提供了所述表面增強(qiáng)拉曼散射基底的制備方法，本發(fā)明通過控制激光加工參數(shù)以及掃描參數(shù)，可以對(duì)材料表面的微納結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)可控制備，進(jìn)而提升表面增強(qiáng)拉曼散射的效果，制備過程簡單實(shí)用，適于批量制備。本發(fā)明還提供了所述的表面增強(qiáng)拉曼散射基底在表面增強(qiáng)拉曼散射中的應(yīng)用，本發(fā)明提供的表面增強(qiáng)拉曼散射基底具有高靈敏度、優(yōu)異的均勻性和穩(wěn)定性，可應(yīng)用于大部分的檢測(cè)領(lǐng)域。?? |
