一種高通量表面增強(qiáng)拉曼散射基底
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021326977.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212904537U | 公開（公告）日 | 2021-04-06 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212904537U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-06 |
| 分類號(hào) | G01N21/65(2006.01)I | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 紹興鐳納激光科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京睿智保誠(chéng)專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 王燦 |
| 地址 | 312000浙江省紹興市柯橋區(qū)齊賢街道柯橋經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)西環(huán)路586號(hào)綜合樓5001室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種高通量表面增強(qiáng)拉曼散射(SERS)基底，包括金屬基底，所述金屬基底表面設(shè)置有呈矩陣排布的復(fù)數(shù)個(gè)SERS單元，所述SERS單元為方形或圓形，所述SERS單元表面設(shè)置有微納復(fù)合結(jié)構(gòu)層，所述微納復(fù)合結(jié)構(gòu)包括呈點(diǎn)陣分布的微米坑，所述微米坑內(nèi)分布有納米帶，所述納米帶內(nèi)設(shè)置有納米突起，相鄰微米坑陣列的交界處分布有納米波紋，所述納米波紋的表面覆蓋有納米顆粒。通過(guò)本實(shí)用新型的設(shè)置，表面增強(qiáng)拉曼散射基底具有高靈敏度、優(yōu)異的均勻性和穩(wěn)定性，可應(yīng)用于大部分的檢測(cè)領(lǐng)域。?? |
