一種快速清洗大面積真空腔室內(nèi)累積薄膜的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011370190.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112609168A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-04-06 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112609168A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-06 |
| 分類號(hào) | C23C16/52(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/50(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 藍(lán)仕虎;張麗平;劉正新;孟凡英;程瓊;周華;謝毅 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中威新能源（成都）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都弘毅天承知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 軒勇麗 |
| 地址 | 610000四川省成都市西南航空港經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)內(nèi) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種快速清洗大面積真空腔室內(nèi)累積薄膜的方法，涉及半導(dǎo)體光電轉(zhuǎn)換領(lǐng)域，包括以下步驟：步驟S1：第一步清洗，向沉積腔室通入第一清洗氣體，產(chǎn)生等離子體，調(diào)整第一壓力和第一清洗氣體流量將所述等離子體的滯留時(shí)間調(diào)整為第一滯留時(shí)間，清洗時(shí)間為第一清洗時(shí)間；步驟S2：第二步清洗，向沉積腔室通入第二清洗氣體，產(chǎn)生等離子體，調(diào)整第二壓力和第二清洗氣體流量將所述等離子體的滯留時(shí)間調(diào)整為第二滯留時(shí)間，清洗時(shí)間為第二清洗時(shí)間。采用兩種或者多種氣體滯留時(shí)間相組合的方式對(duì)沉積腔內(nèi)表面和托盤(pán)進(jìn)行清洗，減少清洗時(shí)間，又可以提高清洗均勻性，同時(shí)降低清洗氣體的使用量，提升設(shè)備有效生產(chǎn)的時(shí)間，實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)能增加而成本降低。?? |
