一種含有臭氧的噴淋式清洗硅片的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201922477727.X 申請日 -
公開（公告）號 CN211914785U 公開（公告）日 2020-11-13
申請公布號 CN211914785U 申請公布日 2020-11-13
分類號 B08B3/08(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 杜俊霖;孫林;張麗平;石建華 申請（專利權）人 中威新能源（成都）有限公司
代理機構 成都時譽知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 中威新能源（成都）有限公司
地址 610000四川省成都市雙流西南航空港經(jīng)濟開發(fā)區(qū)內
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種含有臭氧的噴淋式清洗硅片的裝置，包括清洗槽、堿液循環(huán)裝置和臭氧發(fā)生器，所述清洗槽上設置有進液口和出液口，所述進液口和所述出液口分別與所述液體循環(huán)裝置連接；本實用新型通過設計液體循環(huán)裝置，在充滿臭氧氣體的清洗槽中噴淋酸性或堿性溶液，使硅片表面產(chǎn)生大量的氣、液、固三相反應界面，解決了臭氧和自由基在堿性溶液中分解速度太快，無法到達硅片表面與有機沾污進行反應的難題。在充滿臭氧氣體的清洗槽中噴淋氫氟酸溶液，使硅片表面的臭氧可以達到很高的濃度，提高臭氧CP的腐蝕速率，縮短工藝時間，提高產(chǎn)能。??