一種含有臭氧的噴淋式清洗硅片的裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201922477727.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN211914785U | 公開（公告）日 | 2020-11-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211914785U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-11-13 |
| 分類號(hào) | B08B3/08(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 杜俊霖;孫林;張麗平;石建華 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中威新能源（成都）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 成都時(shí)譽(yù)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 中威新能源（成都）有限公司 |
| 地址 | 610000四川省成都市雙流西南航空港經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)內(nèi) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種含有臭氧的噴淋式清洗硅片的裝置，包括清洗槽、堿液循環(huán)裝置和臭氧發(fā)生器，所述清洗槽上設(shè)置有進(jìn)液口和出液口，所述進(jìn)液口和所述出液口分別與所述液體循環(huán)裝置連接；本實(shí)用新型通過設(shè)計(jì)液體循環(huán)裝置，在充滿臭氧氣體的清洗槽中噴淋酸性或堿性溶液，使硅片表面產(chǎn)生大量的氣、液、固三相反應(yīng)界面，解決了臭氧和自由基在堿性溶液中分解速度太快，無法到達(dá)硅片表面與有機(jī)沾污進(jìn)行反應(yīng)的難題。在充滿臭氧氣體的清洗槽中噴淋氫氟酸溶液，使硅片表面的臭氧可以達(dá)到很高的濃度，提高臭氧CP的腐蝕速率，縮短工藝時(shí)間，提高產(chǎn)能。?? |
