一種面蒸發(fā)源噴嘴結(jié)構(gòu)
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121827837.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN215328330U | 公開(公告)日 | 2021-12-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN215328330U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-12-28 |
| 分類號(hào) | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王衛(wèi)衛(wèi);周文斌;朱曉慶;范國(guó)振;沈倩;孫劍;高裕弟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 昆山夢(mèng)顯電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 林波 |
| 地址 | 215300江蘇省蘇州市昆山市晨豐路188號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及有機(jī)發(fā)光顯示器制作技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種面蒸發(fā)源噴嘴結(jié)構(gòu),面蒸發(fā)源噴嘴結(jié)構(gòu)設(shè)置于真空腔室和基板之間,包括:第一結(jié)構(gòu)層,第一結(jié)構(gòu)層中設(shè)有多個(gè)噴孔結(jié)構(gòu),噴孔結(jié)構(gòu)與真空腔室連通,噴孔結(jié)構(gòu)用于將真空腔室中的有機(jī)材料蒸氣噴出;第二結(jié)構(gòu)層,第二結(jié)構(gòu)層連接于第一結(jié)構(gòu)層靠近基板的一側(cè),第二結(jié)構(gòu)層上設(shè)有多個(gè)引導(dǎo)縫隙,引導(dǎo)縫隙的數(shù)量與噴孔結(jié)構(gòu)的數(shù)量相等,多個(gè)引導(dǎo)縫隙與多個(gè)噴孔結(jié)構(gòu)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置,引導(dǎo)縫隙的一端與噴孔結(jié)構(gòu)連通,引導(dǎo)縫隙的另一端用于將有機(jī)材料蒸氣引導(dǎo)向基板。通過(guò)上述結(jié)構(gòu),該面蒸發(fā)源噴嘴結(jié)構(gòu)能夠有效改善蒸鍍陰影,降低蒸鍍不良,提高產(chǎn)品質(zhì)量。 |





