一種原子層沉積設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202121551452.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215163107U 公開（公告）日 2021-12-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN215163107U 申請(qǐng)公布日 2021-12-14
分類號(hào) C23C16/455（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 檀長(zhǎng)兵;周文斌;徐超;盛嫦娥;曹云玲;張峰;孫劍;高裕弟 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 昆山夢(mèng)顯電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 范坤坤
地址 215300江蘇省蘇州市昆山市晨豐路188號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種原子層沉積設(shè)備。原子層沉積設(shè)備包括：產(chǎn)品載臺(tái)、第一進(jìn)氣擴(kuò)散板和排氣擴(kuò)散板。產(chǎn)品載臺(tái)包括進(jìn)氣側(cè)和出氣側(cè)；第一進(jìn)氣擴(kuò)散板設(shè)置于產(chǎn)品載臺(tái)的進(jìn)氣側(cè)；第一進(jìn)氣擴(kuò)散板包括矩陣排布的進(jìn)氣孔，用于使驅(qū)體向產(chǎn)品載臺(tái)均勻擴(kuò)散；排氣擴(kuò)散板設(shè)置于產(chǎn)品載臺(tái)的出氣側(cè)；排氣擴(kuò)散板包括矩陣排布的排氣孔，用于使驅(qū)體維持均勻擴(kuò)散；其中，進(jìn)氣孔和排氣孔的形狀均為喇叭狀，進(jìn)氣孔的孔徑較大的一端朝向產(chǎn)品載臺(tái)，進(jìn)氣孔的孔徑較小的一端背離產(chǎn)品載臺(tái)；排氣孔的孔徑較大的一端朝向產(chǎn)品載臺(tái)，排氣孔的孔徑較小的一端背離產(chǎn)品載臺(tái)。本實(shí)用新型實(shí)施例可以提高產(chǎn)品膜層的致密性和均勻性，降低產(chǎn)品不良。