一種基于DMD的光刻機圖形拼接誤差的檢測與修正方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202111532272.2 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN114488704A | 公開(公告)日 | 2022-05-13 |
| 申請公布號 | CN114488704A | 申請公布日 | 2022-05-13 |
| 分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 廉治華;謝軍;劉敏;樊廷慧;程衛(wèi)濤 | 申請(專利權(quán))人 | 西安金百澤電路科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 深圳市千納專利代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 516081廣東省惠州市大亞灣區(qū)響水河龍山六路 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種基于DMD的光刻機圖形拼接誤差的檢測與修正方法,包括線路圖形設(shè)計;拼接重疊區(qū)域設(shè)定;拼接圖形設(shè)計;線路圖形曝光顯影;拼接圖形曝光顯影;重合線條判斷;DMD偏移位置判斷;DMD位置補償;上述檢測與修正方法,將基準圖形和偏移圖形分別利用基準DMD和非基準DMD在透明片上的拼接重疊區(qū)域內(nèi)進行曝光,判斷非基準DMD曝光的偏移圖形與基準DMD曝光的基準圖形的重合線條,根據(jù)重合線條判斷非基準DMD與基準DMD的位置是否有偏移,有偏移則根據(jù)線條預(yù)設(shè)間距值調(diào)整非基準DMD的位置,可節(jié)省測量時間,提高了檢測效率,同時避免受測量儀器的誤差影響,以及圖形拼接誤差測量不精準帶來的干擾。 |





