分布反饋式面發(fā)射激光器及其制作方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010674651.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN111725701A | 公開(公告)日 | 2020-09-29 |
| 申請公布號 | CN111725701A | 申請公布日 | 2020-09-29 |
| 分類號 | H01S5/12(2006.01)I;H01S5/10(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 蔡建新 | 申請(專利權)人 | 武漢仟目激光有限公司 |
| 代理機構 | 北京匯澤知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 武漢仟目激光有限公司 |
| 地址 | 430205湖北省武漢市東湖新技術開發(fā)區(qū)湯遜湖北路33號華工科技園·創(chuàng)新基地13棟1單元1層01號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及激光器技術領域,提供了一種分布反饋式面發(fā)射激光器,包括由上而下依次布設的襯底、中間層、接觸層以及金屬層,激光器還包括掩埋在中間層靠近所述接觸層的部分中的光柵層。還提供一種分布反饋式面發(fā)射激光器的制作方法,包括如下步驟:S1,由上而下依次布設襯底、上包層、上波導層、有源層、下波導層、下包層、接觸層以及金屬層;S2,在所述下包層中制作光柵層,或者是在所述下波導層中制作光柵層,或者是在所述下包層和所述下波導層之間制作光柵層。本發(fā)明通過將光柵層掩埋在中間層靠近接觸層的部分中,能夠完全保證接觸層不被損傷,使工藝處理可靠,容錯率高,從而明顯有效地提高良率。?? |





