制備球形粉末的裝置
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | 2020211809792 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN212398134U | 公開(公告)日 | 2021-01-26 |
| 申請公布號 | CN212398134U | 申請公布日 | 2021-01-26 |
| 分類號 | B22F9/14(2006.01)I | 分類 | 鑄造;粉末冶金; |
| 發(fā)明人 | 葉高英;古忠濤;謝玉明 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州英納特納米科技有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 蘇州領(lǐng)躍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 王寧 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城綜合樓中北區(qū)23棟214室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本實用新型公開了一種制備球形粉末的裝置,包括:送粉槍、射頻等離子體發(fā)生器、球化處理室和急冷室;所述送粉槍連所述接射頻等離子體發(fā)生器以使所述送粉槍送出的金屬原粉在所述射頻等離子體發(fā)生器內(nèi)經(jīng)加熱形成金屬液滴;所述射頻等離子體發(fā)生器和所述急冷室分別連接所述球化處理室,所述金屬液滴經(jīng)所述球化處理室進入所述急冷室并形成球形粉末;所述射頻等離子體發(fā)生器的朝向球化處理室的下端噴口為外擴的發(fā)散噴口,所述射頻等離子體發(fā)生器的下端噴口的外周設(shè)置有第二冷卻回路以對所述射頻等離子體發(fā)生器的下端噴口進行冷卻。上述制備球形粉末的裝置運行時的可靠性高,能夠制備出高質(zhì)量的球形粉末。?? |





