一種磁控濺射鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921005002.4 申請日 -
公開（公告）號 CN210856323U 公開（公告）日 2020-06-26
申請公布號 CN210856323U 申請公布日 2020-06-26
分類號 C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張沖 申請（專利權(quán)）人 北京卓熠新能源科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華夏泰和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
地址 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)榮昌東街7號院6號樓3001室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及光伏設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種磁控濺射鍍膜設(shè)備。本實用新型實施例提供的磁控濺射鍍膜設(shè)備，包括清洗腔室和鍍膜腔室，清洗腔室內(nèi)設(shè)有等離子清洗裝置，襯底采用等離子轟擊方式清洗，不需要用到有機(jī)溶劑，等離子體可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，可以使得清洗效率獲得極大的提高；同時避免使用有危害性的有機(jī)溶劑清洗劑，也避免了對清洗液的運(yùn)輸、存儲、排放等處理措施；并且第一樣品臺設(shè)有多個，這樣單次抽真空就可以對多個襯底進(jìn)行清洗和鍍膜作業(yè)，與現(xiàn)有的每一個襯底的鍍膜都開腔、關(guān)腔、抽真空的方式相比，減少了開關(guān)鍍膜腔室的次數(shù)，提高了鍍膜產(chǎn)出效率。??