一種晶圓表面清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121992393.0 申請日 -
公開（公告）號 CN215613558U 公開（公告）日 2022-01-25
申請公布號 CN215613558U 申請公布日 2022-01-25
分類號 B08B3/02（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 黃海榮;謝柏弘;何若飛 申請（專利權）人 深圳遠榮半導體設備有限公司
代理機構 深圳市添源知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 周椿
地址 518000廣東省深圳市寶安區(qū)松崗街道潭頭社區(qū)潭頭第二工業(yè)城A區(qū)27棟102
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及晶圓生產(chǎn)領域，特別涉及一種晶圓表面清洗裝置。該裝置包括升降機構、噴頭調(diào)節(jié)機構、清洗噴頭、高度調(diào)節(jié)桿、支撐桿，高度調(diào)節(jié)桿一端固定連接、其另一端連接升降機構，升降機構通過旋轉(zhuǎn)來調(diào)節(jié)在高度調(diào)節(jié)桿上的高度，支撐桿橫向連接在升降機構上，噴頭調(diào)節(jié)機構設置在支撐桿上，清洗噴頭連接在噴頭調(diào)節(jié)機構上，根據(jù)晶圓的位置噴頭調(diào)節(jié)機構調(diào)整清洗噴頭的朝向?qū)示A表面。本裝置采用兆聲波發(fā)聲器，使液體產(chǎn)生高頻振蕩來對晶圓表面進行清洗，對殘留物有較強的清洗效果；利用升降機構調(diào)節(jié)裝置與晶圓的相對高度，再利用噴頭調(diào)節(jié)機構，使清洗噴頭對準晶圓表面，使清洗噴頭噴出的液體相對晶圓表面有最佳清洗角度。