一種寶石單晶生長(zhǎng)方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510113625.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN104711676A | 公開(公告)日 | 2015-06-17 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN104711676A | 申請(qǐng)公布日 | 2015-06-17 |
| 分類號(hào) | C30B29/20(2006.01)I;C30B17/00(2006.01)I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
| 發(fā)明人 | 羅仁輝;秦英謖;馬中琦;楊明超 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 內(nèi)蒙古京晶光電科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 包頭市專利事務(wù)所 | 代理人 | 莊英菊 |
| 地址 | 014030 內(nèi)蒙古自治區(qū)包頭市青山區(qū)裝備制造園區(qū)新北區(qū)新北路15號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種單晶生長(zhǎng)方法,具體涉及一種寶石單晶生長(zhǎng)方法。本發(fā)明在分段式熱場(chǎng)結(jié)構(gòu)長(zhǎng)晶爐中,通過控制不同位置加熱器功率配比以及功率降速配比,使晶體在熱場(chǎng)環(huán)境下完成引晶、擴(kuò)肩、等徑生長(zhǎng)以及退火冷卻。本發(fā)明通過調(diào)整加熱器上中下三部分的功率配比以及降速配比,可在晶體生長(zhǎng)的不同階段營(yíng)造最適合晶體生長(zhǎng)的熱環(huán)境,既實(shí)現(xiàn)了熔體梯度的高度可調(diào),也可實(shí)現(xiàn)溫度控制的直觀性與精確性,保持良好的生長(zhǎng)界面,最終生長(zhǎng)出的晶體外形光潔整齊、形狀規(guī)則、無回熔,晶體透亮、缺陷少、利用率高,晶體良率可達(dá)85%以上。本發(fā)明適用于各種重量級(jí)別的藍(lán)寶石生長(zhǎng)過程,尤其適用于80-150kg級(jí)別的藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)。 |





