橫向RC-IGBT器件及其制造方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810960333.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(公告)號(hào) | CN109148293B | 公開(公告)日 | 2022-04-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN109148293B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-04-22 |
| 分類號(hào) | H01L21/331(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 楊玨琳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 江蘇中科君芯科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州國(guó)誠(chéng)專利代理有限公司 | 代理人 | 韓鳳 |
| 地址 | 214135江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)菱湖大道200號(hào)中國(guó)傳感網(wǎng)國(guó)際創(chuàng)新園D2棟五層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種橫向RC?IGBT器件及其制造方法,其集電極結(jié)構(gòu)包括第二導(dǎo)電類型集電極短路區(qū)、第二導(dǎo)電類型電場(chǎng)阻止層以及第一導(dǎo)電類型集電區(qū);連接金屬與第二導(dǎo)電類型集電極短路區(qū)歐姆接觸;所述集電極金屬與第一導(dǎo)電類型集電區(qū)歐姆接觸,多晶電阻區(qū)通過(guò)電阻區(qū)氧化層與第二導(dǎo)電類型集電極短路區(qū)、第一導(dǎo)電類型集電區(qū)間隔,電阻區(qū)氧化層支撐在第二導(dǎo)電類型集電極短路區(qū)、第一導(dǎo)電類型集電區(qū)上;多晶電阻區(qū)位于連接金屬與集電極金屬之間,且多晶電阻與連接金屬、集電極金屬接觸,連接金屬通過(guò)絕緣介質(zhì)層與發(fā)射極結(jié)構(gòu)、柵極結(jié)構(gòu)絕緣隔離。本發(fā)明與現(xiàn)有工藝兼容,能有效抑制橫向RC?IGBT器件的負(fù)阻現(xiàn)象,提高IGBT器件的可靠性。 |





