一種用于基件卷對卷的曝光裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110153987.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113219791A 公開（公告）日 2021-08-06
申請公布號 CN113219791A 申請公布日 2021-08-06
分類號 G03F7/20 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 李文章;張雷 申請（專利權）人 源能智創(chuàng)（江蘇）半導體有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 215399 江蘇省蘇州市昆山市玉山鎮(zhèn)南淞路111號華平（昆山）智造園B-6號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種卷對卷曝光裝置及曝光方法，包括滾筒、傳動輪組、曝光系統，基件在所述傳動輪組帶動下貼附在所述滾筒圓周表面轉動并完成曝光，還包括放料裝置、收料裝置、暫存料裝置，用于基件的收卷或/和放卷。本發(fā)明的卷對卷曝光裝置的基件通過滾筒上分布的真空吸附空形成負壓有效貼附在滾筒圓周表面并進行對準及曝光，增加了基件在滾筒上的平整度，有效提升了基件的對準及曝光效果；暫存料裝置在對第一面已曝光的基件收卷后可以實現反轉，將第一面已曝光的基件放卷再次傳送到滾筒完成第二面曝光，節(jié)省了一套對位裝置及曝光裝置。